锑锡氧化物因其固有的高可见光透过率、良好的红外屏蔽性能和导电性，可用于节能建筑、光电器件和军事隐身技术。本文主要综述了锑锡氧化物纳米材料及其薄膜制备技术的研究现状，介绍了沉淀法、溶胶－凝胶法和水热法／溶剂热法等纳米材料制备技术，以及喷雾热解法、脉冲激光法、磁控溅射法和涂覆法等薄膜制备技术，并对锑掺杂浓度、干燥方法、煅烧温度、氧化还原温度等进行了分析，氧气流量——膜厚度等工艺参数对氧化锑锡纳米材料及其薄膜的结构特征和光电性能的影响。介绍了氧化锑锡薄膜在光电子、建筑、军事等领域的应用现状。总结了各种制备技术的优缺点。对该领域存在的问题及未来的研究和应用方向进行了讨论和展望。